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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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Forneau de sublimation sous vide à structure horizontale de 380 V pour la production d'oxyde de silicium

Détails du produit

Lieu d'origine: La Chine

Nom de marque: Jingtan

Certification: CE

Conditions de paiement et d'expédition

Quantité de commande min: 1 série

Prix: USD10,000-80,000/SET

Détails d'emballage: boîtier en bois

Délai de livraison: 60 jours

Conditions de paiement: L/C/T/t

Capacité d'approvisionnement: 10 pièces par mois

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Les spécifications
Mettre en évidence:

Forneau de sublimation sous vide à structure horizontale

,

Forneau de sublimation pour l'oxyde de silicium

Système de refroidissement:
L'eau
Fréquence:
50 Hz
Voltage:
Pour les appareils électroniques
Temps de traitement thermique:
8 à 10 heures
Couleur:
Le client est requis
Taille du canon intérieur:
1500X1500mm
Volume efficace:
3.5-10CBM
Garantie:
1 année
Taille:
Personnalisé
Système de refroidissement:
L'eau
Fréquence:
50 Hz
Voltage:
Pour les appareils électroniques
Temps de traitement thermique:
8 à 10 heures
Couleur:
Le client est requis
Taille du canon intérieur:
1500X1500mm
Volume efficace:
3.5-10CBM
Garantie:
1 année
Taille:
Personnalisé
Définition
Forneau de sublimation sous vide à structure horizontale de 380 V pour la production d'oxyde de silicium

1. Convient à la production en série de matériaux de dépôt de vapeur tels que l'oxyde de silicium;

2. contrôle de différence de température de haute précision, four à vide à haute température;

3. avec une sublimation sous vide élevée, réaction, dégraissage, déshydratation, dépôt de vapeur de matériau, grattage automatique, collecte au four et autres capacités de processus spéciales.

 

Produits FLes caractéristiques:

 

1Une grande quantité de matériel, une grande efficacité de production.

2.L'ensemble du processus est entièrement fermé et fonctionne automatiquement pour éviter la poussière qui vole, et l'environnement du site de production est propre et ordonné.

3.La température est contrôlée à 1500 degrés, et le taux de chauffage est rapide.

 

 

Principaux paramètres techniques:

 

Modèle JT-SHL-118 JT-SHL-226: le code de l'entreprise JT-SHL-385: les produits de base et les produits de base Le numéro de série de l'appareil doit être le suivant:
Structure du four Légères
Taille de la zone à température constante Φ500 mm*600 mm Φ600 mm*800 mm Φ700 mm*1000 mm Φ800 mm*1600 mm
Corps du four La structure de refroidissement à eau à double couche interne et externe et la partie de contact de l'eau de refroidissement en acier inoxydable 304,empêcher efficacement le corps du four pendant une longue période d'utiliser le phénomène de fuite de gaz
Système de sublimation La zone de chauffage est composée d'une bobine d'induction, de corindon lourd, de graphite de feutre dur et de graphite isostatique.
Système de régulation de la température L'utilisation du mode de contrôle centralisé à écran tactile PLC, contrôle automatique, avec port réseau, peut réaliser le contrôle à distance.
Système de chauffage Il est composé d'une pompe à vide à plusieurs étages, d'une vanne à vide, d'un régulateur de pression et d'un pipeline.
Système à vide Il est composé d'une pompe à vide à plusieurs étages, d'une vanne à vide, d'un régulateur de pression et d'un pipeline.
Système de refroidissement Équipé d'un système de refroidissement fermé, la circulation interne avec de l'eau désionisée, ne provoquera pas de tuyauterie de mise à l'échelle de l'équipement, la perte d'eau de circulation interne est faible,circulation externe avec eau du robinet, remplissage automatique d'eau, démarrage du ventilateur dissipation de la chaleur; Bon effet de dissipation de la chaleur, protection de l'environnement intégrée, petite empreinte et ainsi de suite.

 

L'équipement est composé d'un système de sublimation, d'un système de collecte, d'un système de chauffage, d'un système de contrôle de la température, d'un système de vide, d'un système mécanique et d'un système de refroidissement.

 

Forneau de sublimation sous vide à structure horizontale de 380 V pour la production d'oxyde de silicium 0

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