logo
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
produits
Maison /

produits

Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince

Détails du produit

Nom de marque: Jingtan

Certification: CE

Conditions de paiement et d'expédition

Quantité de commande min: 1 série

Prix: USD12,000-100,000/SET

Détails d'emballage: Emballage de boîtes en bois

Délai de livraison: 60 jours

Conditions de paiement: L/C/T/t

Capacité d'approvisionnement: 30 morceaux/morceaux par Quart

Obtenez le meilleur prix
Contact maintenant
Les spécifications
Mettre en évidence:

Équipement de dépôt pour matériaux semi-conducteurs

,

CVD four pour les matériaux semi-conducteurs

Lieu d'origine:
Hunan, Chine
Le type:
four à induction
Utilisation:
four de dépôt
Inspection vidéo de sortie:
Fournit
Rapport d'essai de la machine:
Fournit
Composants de base:
PLC
brand name:
Jingtan
Voltage:
380
Poids (T):
2 T
Puissance (kW):
220
Points clés de vente:
Prix compétitif
Température de conception (°C):
1250 à 2200
Température inquiétante:
900 à 1200°C
Taux de hausse de pression (Pa/h):
0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Méthode de chauffage:
résistance/induction
Ambiance de travail:
sous vide/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Type de four:
Carré/rondeVertical/Horizontale
Mode de refroidissement du four:
refroidissement à l'eau de la coque du four
Instruments à infrarouge:
couleurimétrique simple ou double
Uniformité de température:
± 5
Limites de vide Degré ((Pa):
1-100
Type de commercialisation:
Produit ordinaire
Garantie des composants de base:
1 année
Industrie concernée:
autres, semi-conducteurs
Lieu d'origine:
Hunan, Chine
Le type:
four à induction
Utilisation:
four de dépôt
Inspection vidéo de sortie:
Fournit
Rapport d'essai de la machine:
Fournit
Composants de base:
PLC
brand name:
Jingtan
Voltage:
380
Poids (T):
2 T
Puissance (kW):
220
Points clés de vente:
Prix compétitif
Température de conception (°C):
1250 à 2200
Température inquiétante:
900 à 1200°C
Taux de hausse de pression (Pa/h):
0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Méthode de chauffage:
résistance/induction
Ambiance de travail:
sous vide/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Type de four:
Carré/rondeVertical/Horizontale
Mode de refroidissement du four:
refroidissement à l'eau de la coque du four
Instruments à infrarouge:
couleurimétrique simple ou double
Uniformité de température:
± 5
Limites de vide Degré ((Pa):
1-100
Type de commercialisation:
Produit ordinaire
Garantie des composants de base:
1 année
Industrie concernée:
autres, semi-conducteurs
Définition
Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince
Les spécifications:
Pièces de chauffage à vide:
Principalement utilisé pour la préparation de matériaux composites carbone-carbone, et le four de dépôt est principalement utilisé pour la préparation d'un revêtement pyrolytique de carbone sur la surface du graphite,appareils semi-conducteurs et matériaux de nettoyage résistants à la chaleur.
Paramètre/numéro de modèle
JT-0305-C
JT-0505-C
JT-0608-C
JT-0608-C
Le numéro de téléphone est le numéro de téléphone de l'entreprise.
JT-1120-C
JT-1218-C
JT-1520-C
Taille de la zone de travail
φ × H ((mm)
300 × 500
500 × 500
600 × 800
600 × 1200
800×1200
1100 × 2000
1200 × 1800
1500 × 2000
Température maximale
(°C)
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
Uniformité de température ((°C)
± 5
± 5
± 5 à ± 7.5
±7,5 ou ±10
±7,5 ou ±10
±10/±15
±10/±15
± 15 ou ± 20
Définition de l'équipement
1 à 100
1 à 100
1 à 100
1 à 100
1 à 100
1 à 100
1 à 100
1 à 100
Définition de l'équipement
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
Méthode de chauffage
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Résistance/induction
Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince 0
Température de conception
Pour le calcul de la température de l'air, il convient de déterminer la température de l'air.
Température commune
900 à 1200°C
Degré de vide
Pour les appareils électroniques
Taux de hausse de pression
6.67pA/h ((ou 150Pa/24h) à froid dans un four vide
Mode de chauffage
chauffage par résistance au graphite ou chauffage par induction, contrôle indépendant de la température, bonne uniformité de la température
Média atmosphérique
sous vide /CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince 1
Mode de commande du gaz
contrôle du débitmètre de masse, voie de gaz multicanal, champ de débit uniforme, pas d'angle mort de dépôt, bon effet de dépôt;système de traitement des gaz d'échappement multifase et efficace, respectueux de l'environnement,facile à nettoyer
Type de four
structure carrée, ronde, verticale ou horizontale (conception non standard), chambre de dépôt entièrement fermée, bon effet d'étanchéité,
une forte capacité antipollution;
Mode de refroidissement du four
refroidissement à l'eau de la coque du four, système de refroidissement rapide à circulation externe peut être sélectionné, temps de refroidissement court, production élevée
l'efficacité;
Équipement de dépôt de four CVD pour la préparation de matériaux semi-conducteurs à film mince 2
Forme de la structure
décharge horizontale - latérale, verticale - décharge vers le haut/vers le bas
Mode de verrouillage
manuel/automatique
Matériau de coquille
acier inoxydable intérieur/tout acier inoxydable
Matériau d'isolation
Feutre de carbone/feutre de graphite/feutre de fibre de carbone durci
Instruments à infrarouge
une colorimétrie simple/une double colorimétrie
Énergie électrique
KGPS/IGBT ((uniquement adapté au chauffage à moyenne fréquence)
Paramètre du produit:
 
 
Envoyez votre demande
Veuillez nous envoyer votre demande et nous vous répondrons dans les plus brefs délais.
Envoyez