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Forneau de graphitisation en fibres de carbone à température de travail de 3000 °C, contrôle PID programmable et atmosphère de gaz inerte ou sous vide

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2400°C Forneau de frittage à haute température avec contrôle PLC et atmosphère sous vide pour traitement thermique industriel

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Forneau de frittage sous vide à 2400°C avec télécommande et commande PLC pour le frittage à haute température

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Forneau de sublimation sous vide d'oxyde de silicium à 1500 °C avec refroidissement à l'eau à double couche et contrôle à écran tactile PLC

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Forneau de graphitisation continue avec contrôle automatique PID à température de travail de 3000 °C et système de refroidissement par eau

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Four de frittage Si2O pour oxyde de silicium avec une température de fonctionnement de 1 500 °C, une uniformité de ± 5 °C et une taille de chambre personnalisable

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Forneau de graphitisation à haute température avec température de travail de 3000 °C, contrôle PID programmable et atmosphère de gaz inerte ou sous vide

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Forneau de frittage à débondissement MIM avec contrôle précis de la température, uniformité ≤ ± 10 °C et précision de contrôle ± 1 °C

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Forneau de frittage à température maximale de 2400°C avec régulateur de température PID et système de refroidissement par eau

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Four de craquage de graphite sous vide à température de fonctionnement de 3 000 °C avec structure compacte pour utilisation en laboratoire

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Température de fonctionnement 3000°C Forneau de craquage sous vide de graphite

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Forneau de frittage sous vide à haute température 1600°C

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Chine prix d'usine 2400°C Température maximale sous vide Forneau de frittage à chaud

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Forneau de graphitisation de laboratoire à très haute température à 3200°C pour matériaux au carbone avec alimentation IGBT à haute précision de contrôle de température

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Forneau de graphitisation de laboratoire à haute température à 3200°C pour les matériaux au carbone

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Chine prix d'usine 3000°C Température de travail Fourniture de craquage sous vide de graphite à structure compacte pour les essais en laboratoire

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