logo
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
produits
Maison /

produits

Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs

Détails du produit

Lieu d'origine: Hunan, Chine

Nom de marque: Jingtan

Conditions de paiement et d'expédition

Quantité de commande min: 1

Prix: $56,000

Obtenez le meilleur prix
Contact maintenant
Les spécifications
Mettre en évidence:

375L Capacité de charge Fourneau de graphitisation

,

500x500x1500 Taille de la chambre Le four de purification

,

Machine à friture sous vide à température d'uniformité ± 5°C

Taper:
Four à induction
Tension:
380
Poids:
5 T
Température limite:
2400℃
Méthode de chauffage:
Résistance à la chauffage des tiges de graphite
Modèle de contrôle:
Manuel ou automatique
Ambiance de travail:
Protection contre le vide ou les gaz inertes
Capacité de chargement:
375L
Taille de chambre:
500*500*1500
Uniformité de la température:
± 5°C
Structure de four:
horizontal
Matériau du corps du four:
SS 304
ZONE HAUTE TEMPÉRATURE:
500*500*1500
Différence de température:
± 5°C
Composants de base:
PLC, récipient sous pression, pompe, cylindre
Taper:
Four à induction
Tension:
380
Poids:
5 T
Température limite:
2400℃
Méthode de chauffage:
Résistance à la chauffage des tiges de graphite
Modèle de contrôle:
Manuel ou automatique
Ambiance de travail:
Protection contre le vide ou les gaz inertes
Capacité de chargement:
375L
Taille de chambre:
500*500*1500
Uniformité de la température:
± 5°C
Structure de four:
horizontal
Matériau du corps du four:
SS 304
ZONE HAUTE TEMPÉRATURE:
500*500*1500
Différence de température:
± 5°C
Composants de base:
PLC, récipient sous pression, pompe, cylindre
Définition
Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs
Purification des semi-conducteurs par combinaison de méthode chimique et à haute température
Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 0 Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 1
Furonnet de purification par nanotubes de carbone

Le traitement de purification combiné de la méthode à haute température et de la méthode chimique.

Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 2 Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 3

Traitement thermique des matériaux d'anode de batterie, métallurgie des poudres, nanomatériaux, graphène, nouveaux matériaux et matériaux en poudre dans l'atmosphère sous vide,à haute température et purification dans une atmosphère inerte.

Modèle Le TCL-45 Le TCL-128 Le TCL-375 TCL-720 Le TCL-1568 Le TCL-2560 TCL-5000 Le TCL-7200 Le TCL-11700
Zone de température élevée (mm) 300*300*500 400*400*800 500*500*1500 600*600*2000 700*700*3200 800*800*4000 1000*1000*5000 1200*1200*5000 1500*1500*5200
Capacité de chargement 45 128 375 720 1568 2560 5000 7200 11700
Différence de température ± 5 ± 10 ± 15
Température limite 2400
Mode de chauffage résistance de chauffage de la tige de graphite
Modèle de contrôle fonctionnement manuel ou automatique
Atmosphère de travail dans le four protection contre le vide ou les gaz inertes (micropression positive)
Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 4 Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 5
  • Il peut être utilisé pour la purification par graphitisation à haute température des matériaux de nanotubes de carbone et peut réaliser le traitement de purification de la méthode à haute température combinée à la méthode chimique.
  • Il peut réaliser une alimentation et une décharge continues à haute température, réduisant la consommation d'énergie et raccourcissant le cycle de production.
  • Utilisez une résistance ou un chauffage par induction, la température peut atteindre 2400°C.
  • La combinaison de la méthode à haute température et de la méthode chimique peut répondre aux exigences du traitement à haute pureté.
  • Le système de filtration efficace peut capter efficacement la poussière et les gaz corrosifs produits dans le processus de purification.
  • Il peut réaliser une alimentation et une décharge continues à haute température, réduisant la consommation d'énergie et raccourcissant le cycle de production.
Questions fréquemment posées
Êtes-vous une usine ou une société commerciale?
Oui, nous sommes le premier fabricant de fours à vide à haute température en Chine avec plus de 14 ans d'expérience, accordé avec de nombreuses certifications de brevet sur le marché intérieur.
Avez-vous un service de personnalisation ou d'OEM?
Oui, nous avons une puissante équipe de R&D et des équipements de haute technologie. Nous pouvons fournir des modèles réguliers et des fours personnalisables selon les exigences du client.
Quels sont vos avantages?
  • Réponse rapide à votre demande
  • Contrôle de qualité élevé
  • Chaîne d'approvisionnement stable sur le marché intérieur
  • Livraison à temps
  • Excellent service après-vente, y compris l'envoi d'ingénieurs pour l'installation et le débogage
Informations de contact
Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 6 Forneau de graphitisation avec une capacité de chargement de 375L 500x500x1500 Taille de chambre et température ±5°C Uniformité pour la purification des semi-conducteurs 7
Envoyez votre demande
Veuillez nous envoyer votre demande et nous vous répondrons dans les plus brefs délais.
Envoyez