Oxyde de silicium industriel Sublimation sous vide Forneau de frittage chauffage rapide
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Forneau de graphitisation à très haute température à 3200°C avec système de contrôle PLC/PC et système de refroidissement à l'eau pour utilisation en laboratoire
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Forneau de purification de nanotubes de carbone de grand volume avec une zone de température élevée de 300*300*500 à 1500*1500*5200 mm et une capacité de charge de 45 à 11700
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Forneau de frittage industriel de 200 kW de puissance 380 V de tension et de 60 à 25 °C/min de chauffage pour le traitement à haute température
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Forneau de frittage Si2OZ personnalisable pour l'oxyde de silicium à 1500 °C
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Forneau de graphitisation intégrée de laboratoire en acier inoxydable Structure verticale ou horizontale
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Four à frittage sous vide d'oxyde de silicium industriel à 1500℃
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